首页 > Thermo > 电子显微镜 > Spectra Ultra S...

Spectra Ultra S/TEM

要真正优化 S/TEM 成像,EDX 和 EELS 可能需要在不同加速电压下采集不同信号。规则可能因样品而异,但得到普遍接受的观点是:1) 最佳成像在可能的最高加速电压下完成,高于该电压将发生可见损害;2) EDX,特别是在映射时,会受益于更低电压和增加的电离横截面,从而为给定的总剂量产生更好的信噪比图;3) EELS 在高电压下工作效果最佳,可以避免多重散射,这种散射会在样品厚度增加时降低 EELS 信号。

遗憾的是,在不同加速电压下于同一样品上进行采集而不丢失目标区域(全都在一次显微镜检查中实现)并不可行。至少到现在为止是这样。

想象一下,对于 Thermo Scientific Spectra 300 S/TEM:

在一次显微镜检查期间,它真正可以在不同的电压下工作(购买了校准服务的所有 30 到 300 kV 之间的电压)

从加速电压切换到任何其他电压只需大约 5 分钟

它可以适应具有 4.45 srad 立体角(配备分析双倾台时为 4.04 srad 立体角)的截然不同的 EDX 概念

使用全新的 Spectra Ultra S/TEM,加速电压会成为就像束流一样的可调节参数,对传统 EDX 分析而言电子束敏感性过高的材料,可以使用大型 Ultra-X EDX 系统对其进行化学表征。

Spectra Ultra 像差校正 S/TEM 可在材料科学和半导体应用领域的多种样品上提供行业领先水平的最高分辨率表征能力。

建立在一个超稳定的基础上

Spectra Ultra S/TEM 在一个平台上交付,该平台旨在通过被动和(选配)主动隔振提供前所未有的机械稳定性质量水平。

与 Thermo Scientific Spectra 200 S/TEM 和 Spectra 300 S/TEM 一样,该系统也安装在一个完全重新设计的外壳内,其内置屏幕显示便于装载和取出样品。这是首次可以对无矫正器和单矫正器配置时的不同高度提供完全模块化和可升级性,从而为不同的房间配置提供最大的灵活性。

规格 - Spectra Ultra S/TEM

未校正能量散布:0.2–0.3 eV
信息限制:<100 pm
STEM 分辨率:<136 pm
探针已校正能量散布:0.2–0.3 eV
信息限制:<100 pm
STEM 分辨率:<50 pm(30 kV 下 125 pm)
探针+图像校正 X-FEG/Mono能量散布:0.2–0.3 eV
信息限制:<60 pm
STEM 分辨率:300kV 下探针电流 >30pA 时 <50 pm
STEM 分辨率:30kV 下探针电流 >20pA 时 <125 pm
探针+图像校正 X-FEG/UltiMono能量散布:0.05 eV(60kV 下 0.025 eV)
信息限制:<60 pm
STEM 分辨率:300kV 下探针电流 >30pA 时 <50 pm
STEM 分辨率:30kV 下探针电流 >20pA 时 <125pm
探针+图像校正 X-CFEG能量散布:0.4 eV
信息限制:<70 pm
STEM 分辨率:探针电流 >100pA 时 <50 pm(30 kV 下 <136 pm)
离子源X-FEG Mono:高亮度肖特基场发射枪和单色器,可调谐能量分辨率范围为 1-<0.2 eV
X-FEG UltiMono:高亮度肖特基场发射枪,配备超稳定单色器和加速电压,可调谐能量分辨率范围为 1eV-<0.05eV(60kV 下 <0.025eV)
X-CFEG:超高亮度,总射束电流为 14nA 时固有能量分辨率 <0.4 eV,总射束电流为 2nA 时分辨率 <0.3eV
30 – 300 kV 的灵活高张力范围


  • 主要特点

    可从更多材料中在最短时间内获得优化结果

    利用最低剂量STEM/EDX表征更多材料

    PantherSTEM探头系统具有前所未有的灵敏度

    最高分辨率STEM成像性能

    高能量分辨率和高亮度源

    先进的STEM成像能力

    SpectraUltraS/TEM的原位功能