研磨及抛光

研磨和抛光步骤的目标是准备没有变形且适合分析的最终抛光试样。 这可以根据实验室的总体目标以多种方式实现。 无论是实验室寻求最快的整体工艺,最佳的表面光洁度还是多功能性来制备许多不同的材料,Buehler都能为您的研磨和抛光需求提供解决方案。
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  • 电压/频率84-264 VAC, 50/60 Hz, 单相
    重量Burst 组件: 5 lbs [2.26kg]阶梯式基座: 10 lbs [4.35kg]
    尺寸带瓶的Burst组件: 10.25 H x 6 W x 5.25in D [260 x 152 x 133mm]阶梯式基座: 9 H x 6.5 W x 24.3in D [229 x 165 x 625mm]
  • 提供了许多用于样品制备的不同磁性压板系统,以方便在Buehler的研磨抛光机上使用不同的研磨和抛光表面。

  • 样品夹具设计用于Buehler的磨抛机,以便于研磨抛光过程的优化和自动化。

  • 某些特殊的应用需要特定的耗材及解决方案。

  • 最终抛光悬浮液旨在去除表面变形的最后一层,并准备样品进行分析。 肉眼可能看不到变形,但是对于某些标本分析技术,必须将其消除。

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